ENTEGRIS應(yīng)特格在線氣體過(guò)濾器，WG3NS6RR2，MRO現(xiàn)貨自營(yíng)

ENTEGRIS應(yīng)特格在線氣體過(guò)濾器，WG3NS6RR2，MRO現(xiàn)貨自營(yíng)

ENTEGRIS應(yīng)特格在線氣體過(guò)濾器，WG3NS6RR2，MRO現(xiàn)貨自營(yíng)

?

?Wafergard?III?NF-30?在線氣體過(guò)濾器
為超純氣體系統(tǒng)過(guò)濾提供卓越的微粒過(guò)濾。

全金屬結(jié)構(gòu)提供最清潔、最高效的全金屬過(guò)濾器
獲得專利的鎳過(guò)濾膜具有出色的耐腐蝕性和出色的化學(xué)相容性
創(chuàng)新的外殼設(shè)計(jì)有助于消除排氣并減少干燥時(shí)間
高溫和動(dòng)態(tài)壓力應(yīng)用的理想選擇
通常用于高達(dá)?30?slpm?的流量
應(yīng)用
Wafergard?III?NF-30?在線氣體過(guò)濾器應(yīng)用
大宗氣體輸送
光刻
沉積
干法蝕刻
離子注入
注意：不建議與?CO、O?3和低含量氫化物摻雜劑氣體一起使用。
產(chǎn)品規(guī)格
材料 濾膜 獲得專利的燒結(jié)鎳
住房 電拋光?F20?不銹鋼
下游清潔度 粒子* <0.03?個(gè)顆粒/升?(<1?個(gè)顆粒/ft?3?)?>0.01?μm
揮發(fā)物** H?2?O、O?2和?THC?的揮發(fā)性釋氣低于可檢測(cè)限（在室溫下通過(guò)?RGA?和?FID）
移除等級(jí) ≥0.0015?μm
表面處理內(nèi)部 ≤5?μin?Ra
氦泄漏率 合格的 2x10?-10??atm?cc/秒
經(jīng)過(guò)測(cè)試 1x10?-9??atm?cc/秒
最大工作條件 最大入口壓力： 70?bar?(1000?psi)?@?100°C?(212°F)
最大正向/反向壓差： 10?巴?(150?psid)
最高工作溫度 惰性氣體 35?bar?(500?psi)?時(shí)?400°C?(752°F)
腐蝕性和反應(yīng)性氣體 50°C?(122°F)?在?70?bar?(1000?psi)
保修單 5年
顆粒保留 在?30?slpm?時(shí)所有顆粒的去除率大于?99.9999999%?(9?LRV)
在?75?slpm?時(shí)所有顆粒的去除率大于?99.9999%（參考最具穿透性的顆粒尺寸）
流量 參考流量曲線
*顆粒清潔度符合?SEMASPEC?顆粒脫落測(cè)試方法?(#93021511A-STD)
**揮發(fā)性清潔度符合?SEMASPEC?測(cè)試方法：THC?貢獻(xiàn)?(#90120396B-STD)、水分貢獻(xiàn)?(#90120397B-STD)、氧氣貢獻(xiàn)?(#?90120398B-STD)
零件號(hào)
Wafergard?III?NF-30?在線氣體過(guò)濾器部件號(hào)
零件號(hào) 接頭尺寸和類型 長(zhǎng)度
WG3NS3FF2 1/4"?墊片密封（與?VCR?接頭兼容）內(nèi)螺紋入口/出口 58.4?毫米（2.30?英寸）
WG3NS3FR2 1/4"?極化墊圈密封（與?VCR?接頭兼容）內(nèi)螺紋入口/外螺紋出口 71.1?毫米（2.80?英寸）
WG3NS3JJ2 1/4"?對(duì)焊管 28.4?毫米（1.12?英寸）
WG3NS3RF2 1/4"?極化墊片密封件（與?VCR?接頭兼容）外螺紋入口/內(nèi)螺紋出口 71.1?毫米（2.80?英寸）
WG3NS6RR2 1/4"?墊片密封（與?VCR?接頭兼容）外螺紋入口/出口 84.1?毫米（3.31?英寸）

WG3NS6SL2 1/4"?墊片密封（與?VCR?接頭兼容）外螺紋入口/出口，短版 58.7?毫米（2.31?英寸）

?